固体光的吸收

  • 光到电
    光照射固体,电子没有溢出时,光能会转化为电能。

  • 电到光
    电子注入后,半导体材料电子被激发,电子跃迁到高能级

光的吸收系数

固体光学中固体的光学性质可以用折射率$n$和消光系数$\kappa$来描述,两者构成复折射率

$E_g$单位为$\lambda$单位为$\mu m$

光的吸收系数$\alpha$:单位距离吸收的相对光子数

光的吸收过程

  • 本征吸收
  • 激子吸收
  • 自由载流子吸收
  • 杂质与缺陷吸收
  • 晶格吸收

本征吸收

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电子从价带跃迁到导带,产生电子对空穴

直接跃迁($hv>=E_g$)

导带最小值和价带最大值对应于相同的波矢,发生在直接带隙半导体

  • 能量守恒
  • 动量守恒
  • 光子动量远小于电子动量

    间接跃迁($hv<E_g$)

    导带最小值和价带最大值对应的波矢不同

间接带隙半导体

  • 能量守恒
  • 动量守恒

    间接跃迁需要声子参与,因此吸收率远小于直接跃迁

激子吸收

光子能量$hv<E_g$发生

价带电子和和导带空穴通过库伦力舒服在一起,产生电子空穴束缚系统,形成激子(电中性,一种激发的电子能量状态,能在固体中运动,但不传导电流)

激子更具电子空穴检举可以分为

  • 紧束缚激子(数个晶格常数)
  • 松束缚激子 (数百个晶格常数)

  • 激子复合

    • 激子消失,产生辐射
  • 再激励
    • 传导电流

自由载流子吸收

光照射固体,扩散到红外和微博波段,电子和空穴吸收能量后再能带内部跃迁吸收

动量守恒1:光子动量很小,电子动量改变由声子或电离杂质的散射补偿

杂质和缺陷吸收

束缚在杂质或者缺陷上的电子或者空穴吸收光子能量

晶格吸收

光照射固体后晶格吸收光子能量,光子能量直接转化为声子动能

电子空穴产生速率

  • 半导体吸收光子能量产生电子-空穴对
    • 光子能量$hv>= E_g$
    • 光强:$I(x)=I_0exp(-\alpha x)$
    • 一个光子能产生一个电子-空穴对
  • 产生电子-空穴对速率
  • 光子通量

固体对光发射

发光过程中的激发

  • 激发:外界因素作用系统,使系统吸收能量,激发电子
  • 固体受激发光:被激发电子以光辐射形式释放能量
  • 主要的发光形式:光致发光、阴极射线发光、放射线发光、
    生化发光、电致发光

光致发光

  • 光辐射照射固体
    • 吸收能量
    • 电子能量增加
  • 电子向上能级跃迁,进入非热平衡状态
  • 电子向下能级跃迁,恢复到热平衡状态
  • 固体发光

    阴极射线发光

  • 电子束或阴极射线轰击发光物体(如荧光屏)引起发光

    放射线发光

  • 快速粒子或高能射线(如X,α,β,γ及中子射线)
    轰击发光物体引起的发光

    生化发光

  • 人体热、化学反应、生物(萤火虫、某些鱼)发光

    电场发光

  • 场致发光:薄膜发光材料、发光粉末(如荧光粉),
    在外电压下产生的发光
  • pn结或肖特基势垒发光:注入载流子复合导致的发光
  • 白炽灯:电流使钨丝发热,导致的发光

基本符合类型

pn结正向偏置,激发电子注入,电子-空穴对复合

  • 光辐射:发射光子,辐射复合
  • 能量传递:激发,非辐射复合

带间复合过程

  • 导带底附近的电子和价带顶附近的空穴复合

  • 辐射能量$hv \approx E_g$

杂质,缺陷复合过程

  • 导带与受主之间的复合
  • 施主与价带之间的复合
  • 施主与受主之间
  • 深陷阱产生的非辐射复合

俄歇复合(非辐射)

  • 电子空穴复合后能量转移给同一能带的高能态自由载流子
  • 高能态自由载流子跃迁到导带底或价带顶
  • 激发多个声子使晶体发热
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发光效率

量子效率$\eta_q\approx$辐射效率=辐射复合速率$R_r$/总复合速率R

  • 辐射寿命$\tau_r$
  • 非辐射寿命$\tau_{nr}$

复合速率与寿命$\tau$成反比,非辐射寿命越大,发光效率越高

带间电子与空穴的复合速率,与电子浓度n和空穴浓度p成正比

直接带隙半导体的B值比间接高$10^6$个数量级,所以间接材料很难发生辐射复合

材料

  • 直接带隙半导体

    • GaAs
    • $AlxGa{1-x}As$
    • $GaAs_{1-x}P_x$
  • $AlxGa{1-x}$

    • $0<x<0.45$
      • 直接带隙
    • $x>0.45$
      • 间接带隙
  • $GaAs_{1-x}P_x$
    • 0<x<0.45
      • 直接带隙
    • x>0.45
      • 间接带隙

pn结光升伏特和太阳能电池solar cell

基本原理

  • 光照:$hν>= E_g$
  • 产生光生电子—空穴对
  • p区光生电子进入n区,在n区边界积累
  • n区光生空穴进入p区,在p区边界积累
  • 部分空间电荷被中和
  • 在pn结建立光生电动势(电压)V
    与内建电场方向相反
  • pn结光生电动势(电压)V
  • pn结势垒降低到$V_D - V$
  • 光生电流$I_L$
  • 光照恒定 接通外电路
  • 负载电流I
  • pn结光生伏特效应

光电池的I-V特性

  • 正偏导致电流

  • 光生电流为$I_L$

  • 短路电流short-circuit current(V = 0)
  • 开路电压open-circuit voltage(I = 0)

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太阳电池的光电转换效率

  • 太阳辐射谱:主要波长范围在0.3 μm到1.5 μm,峰值约在0.5 μm

太阳电池的光电转换效率(现有机理与技术):

  • 最大输出的电功率$P_max$与输入光功率$P_in$之比

太阳电池的热力学极限效率为32%

  • 等功率线:
    I-V特性曲线图中I·V =常数的曲线
  • 等效率线:
    输入功率恒定时的等功率线
  • pn结的光电转换效率:
    与I-V曲线相切的等效率线对应的效率

非均匀吸收效应

光照半导体表面,光生载流子是非均匀的:

  • 光强:$I(x)=I_0exp(-\alpha x)$
  • 光子在表面的反射率R
  • 单位时间、单位体积,半导体吸收的光子数随深度x指数
    衰减:
  • 1个光子能产生1个电子—空穴对
  • 半导体吸收光子能量产生电子—空穴对的速率为

非增益型半导体光电探测器

半导体光电探测器是将光能转化为电能的光电器件

主要用于检测光信号
半导体光电探测器:

  • 非增益型光电探测器
    • 光电二极管(photodiode:pn结型、PIN型、肖特基型)
    • 光电导探测器(photoconductor)
  • 增益型光电探测器
    • 雪崩光电二极管(avalanche photodiode:APD)
    • 光晶体管(phototransistor or optical transistor)

暗电流:无光照时产生的反向电流
光电流:光照产生

主要参数

  • 量子效率η:入射光子产生(有效)电子—空穴对的能力

  • $I_{ph}$:平均输出光电流

  • P:平均入射光功率
  • 量子效率η :无量纲

响应度

响应度R:光电转换效率(外部特性)

量纲$[R] = V-1 或μA/μW$

频率响应与响应时间

  • 光生载流子渡越耗尽层的漂移时间$t_r$
  • 光生载流子扩散到耗尽层边界的扩散时间$t_d$
  • 结电容与负载电阻电路的时间常数$t_RC$

噪声

噪声是一种随机信号,本质是物理量围绕其平均值的涨落。对于
平稳随机过程,对噪声度量通常采用先计算噪声电压(电流)的
平方值,然后对时间做平均,求噪声电流(电压)的均方值。

散粒噪声:

由于探测器在光辐射作用下,光电子或光生载流子的随机跃迁
所造成的。每一瞬间出现的载流子是不确定的。由于随机起伏
是一个个带电粒子引起的,所以称为散粒噪声。

热噪声

由电阻中载流子的随机热运动引起的:任何处在热平衡条件下
的电阻,即使没有外加电压,也有一定的噪声。

肖特基势垒光电二极管

  • 金属同n型半导体接触构成
    肖特基势垒光电二极管
  • 类似于p+n结器件
  • 肖特基势垒光电二极管,特点:
    • 用很薄(~0.01μm)的、光学上透明的金属膜,消除p+层对高能光子(透入深度
      <0.1μm)的吸收,增强短波响应:适用于可见光和紫外区。
    • 耗尽层仅挨表面,有效减小表面复合,提高量子效率;
    • 镀增透膜,减少反射大部分入射光,在半导体表面附近吸收;
    • 并非所有的材料都能制作PN结。
    • 典型参数:量子效率为70%,响应时间约0.1ns;

增益型和异质结半导体光电探测器

雪崩光电二极管(APD)

  • PN-PD
  • 高反偏压
  • 碰撞离化
  • 雪崩光电效应
  • 雪崩光电二极管(APD)
  • 内部电流增益,灵敏度高
  • 响应速度快,可达1000 GHz,即1 THz

电子(空穴)电离率$\alpha_n(\alpha_p)$

一个电子(空穴)在单位距离上激发一个二次电子—空穴
对的概率, 是电场的强相关函数。
材料的电子—空穴电离率比:

  • 材料的电子—空穴电离率比:

    如果电子和空穴有相同的电离化
    率(K =1),雪崩过程不断重复,
    不会停止:

  • 增大器件增益;

  • 耗时长,减小器件带宽;
  • 随机过程,增大器件噪声;
  • 不稳定会导致雪崩击穿。

增益带宽积

过剩噪声因子noise factor: F

  • 理想的倍增过程:
    • 通过倍增区的每个电子或空穴都倍增M倍
    • 光跃迁随机引起散粒噪声电流也相应倍增M倍
    • 散粒噪声均方电流增加了$M^2$倍

异质结的窗口效应、光限制作用、光电二极管

光照射异质结宽带区Eg2

  • 低能光子 hν<Eg1
    • 光子不能产生电子—空穴对
    • 无光电流
  • Eg1<hν<Eg2
    • 光子透过宽带材料进入窄带材料
    • 在窄带区产生电子—空穴对
    • 产生光电流
  • 高能光子hν>Eg2
    • 宽带区产生电子—空穴对,光子不能进入窄带材料
    • 不能扩散到耗尽区 在窄带区
      在窄带区不能产生电子—空穴对
    • 无光电流

发光二极管(LED)

  • 正向偏置pn结 (电子或空穴)
  • 正向注入
  • (空穴或电子) 复合
  • 自发辐射发光
  • 发光二极管(LED)
  • 紫外光
  • 可见光:电光源(显示、照明)
  • 红外光:通信(0.85 μm、1.31 μm、1.55 μm)
  • 自发辐射:无外电磁场作用时,电子自发从高能级向低能级跃迁,并发
    射光子。
  • 受激辐射:当收到外来能量E=ћv=E1-E2的光照射时,高能级的电子受外
    来光的激励作用向低能级跃迁,同时发射一个与外来光子完全相同的光子。
  • 辐射效率
  • 内量子效率
  • 外量子效率

单位时间从晶体发射出的光子数<单位时间产生的光子数:

  • 体内光吸收
  • 菲涅耳(反射)损耗
  • 临界角(全反射)损耗

半导体激光器

半导体受激光发射的产生

  • 激光器三要素
    • 粒子数分布反转population inversion(区域:有源区)
    • 谐振腔(产生单色性和方向性都很好的单色光)
    • 阈值条件(泵浦:提供能量获得增益,抵消内部损耗、
      产生激光输出)

产生粒子数反转方法

  • 光激励
  • 电子束激励
  • 雪崩碰撞激励
  • pn结正向注入激励

产生粒子数反转的原因

  • 受激发射概率=受激吸收概率
  • 哪一种过程起主导取决于粒子分布情况
  • 处于激发态原子数大于基态原子数,受激发射将超过吸收(光增益)
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光学谐振腔

GaAs-pn结激光器,以严格垂直结面方向的一对(110)解理面
作为镜面构成平面谐振腔

阈值条件

  • 增益系数g:光波沿z向传播单位长度内发射强度的增益
  • 损耗系数α:光波沿z向传播单位长度内发射强度的内部损耗
  • 阈值条件:光波在谐振腔内往返传播一次的增益大于损耗

半导体激光器的主要特性

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  • 谐振腔的振幅条件(阈值条件):
    光波在谐振腔内往返传播一次的总增益为

输出光功率和转换效率

  • 外量子效率: $η_外=P/(IV)$
  • 外微分量子效率: $η_D=(P-Pth)/[(I-Ith)V]≈P/[(I-Ith)V$

模式与光谱分布

分布反馈式(DFB) 半导体激光器